PLD technológia

Laboratórium impulznej laserovej depozície umožňuje prípravu rôznych typov, hlavne tenkých oxidových vrstiev multivrstiev v jednom vákuovom cykle. Výhodou takejto metódy nanášania vrstiev je nižšia depozičná teplota a menší rozmer terčíkov.

Zariadenie:

  • KrF excimerový laser (248 nm) s opakovacou frekvenciou 1-20 Hz a maximálnou energiou 370 mJ
  •  2 palcový držiak podložiek (kompatibilný s kyslíkovou atmosférou) s programovateľným  regulátorom teploty podložky 950 °C (pre Si) a 850 °C (pre priehľadné podložky)
  •  Programovateľné nastavenie vzdialenosti terč-podložka od 55 to 105 mm, základný tlak 5× 10-7 Torr
  • Inteligentné okno pre čistú dráhu optického lúča a mechanizmus pre meranie energiu lúča
  • Počet terčíkov: šesť, maximálny rozmer podložky F=25,4 mm

Využitie:

  • Príprava vysokokvalitných supravodivých, manganitových, dielektrických (oxidových) vrstiev pri nízkej depozičnej teplote
  • Príprava multivrstvových štruktúr s hrúbkami až niekoľkých atomárnych vrstiev

Kontakt:  Š. Chromik, Tel.: +421-2-5922 2339

Prístup: prístup pod odborným dohľadom, rezervovanie e-mailom alebo telefonicky

Cena: 0 Eur/hodina pre zamestnancov SAV

MBE/PLD-2000 PLD zariadenie

YBCO tenká vrstva pripravená na podložke r-zafíre s priemerom 25,4 mm s oddeľovacou vrstvičkou CeO2