Ing. Fedor HRUBIŠÁK

• 2023

Hrubišák, F., Hušeková, K., Zheng, X., Rosová, A., Dobročka, E., Ťapajna, M., Mičušík, M., Nádaždy, P., Egyenes, F., Keshtkar, J., Kováčová, E., Pomeroy, J.W., Kuball, M., and Gucmann, F.: Heteroepitaxial growth of Ga₂O₃ on 4H-SiC by liquid-injection MOCVD for improved thermal management of Ga₂O₃ power devices, J. Vacuum Sci Technol. A 41 (2023) 042708.

Dobročka, E., Gucmann, F., Hušeková, K., Nádaždy, P., Hrubišák, F., Egyenes, F., Rosová, A., Mikolášek, M., and Ťapajna, M.: Structure and thermal stability of ε/κ-Ga₂O₃ films deposited by liquid-injection MOCVD, Materials 16 (2023) 20.

Egyenes, F., Gucmann, F., Rosová, A., Dobročka, E., Hušeková, K., Hrubišák, F., Keshtkar, J., and Ťapajna, M.: Conductance anisotropy of MOCVD-grown α-Ga₂O₃ films caused by (010) β-Ga₂O₃ filament-shaped inclusions, J. Phys. D: Appl Phys. 56 (2023) 045102.

Hrubišák, F., Hušeková, K., Zheng, X., Rosová, A., Dobročka, E., Ťapajna, M., Mičušík, M., Nádaždy, P., Egyenes, F., Keshtar, J., Kováčová, E., Pomeroy, J.W., Kuball, M., and Gucmann, F.: Material properties of MOCVD-grown β- and κ-Ga₂O₃ thin films on 4H-SiC substrates. In Proc. 11^th Inter. Conf. on Advances in Electron. Photon. Technol. – ADEPT. Eds. D. Jandura et al. Žilina: EDIS 2023. ISBN 978-80-554-1977-0. P. 87-90.

Yuan, C., Mao, Y., Meng, B., Xiao, X., Hrubišák, F., Egyenes, F., Dobročka, E., Hušeková, K., Rosová, A., Eliáš, P., Keshtkar, J., Ťapajna, M., and Gucmann, F.: Thermal properties of Ga₂O₃ films and interfaces grown by MOCVD. In Proc. 11^th Inter. Conf. on Advances in Electron. Photon. Technol. – ADEPT. Eds. D. Jandura et al. Žilina: EDIS 2023. ISBN 978-80-554-1977-0. P. 36-39.

• 2022

Hrubišák, F., Hušeková, K., Egyenes, F., Gucmann, F., Dobročka, E., Keshtkar, J., and Ťapajna, M.: Effects of repeated annealing in different atmospheres on surface morphology of ε-/κ-Ga₂O₃ grown on c-plane sapphire using LI-MOCVD method. In: ELITECH´22: 24^th Conf. Doctoral Students Ed. A. Kozáková. Bratislava: Spektrum STU, 2022. ISBN 978-80-227-5192-6.

Hrubišák, F., Hušeková, K., Egyenes, F., Rosová, A., Kubranská, A., Dobročka, E., Nádaždy, P., Keshtar, J., Gucmann, F., and Ťapajna, M.: Structural and electrical properties of Ga₂O₃ transistors grown on 4H-SiC substrates. In: ASDAM 2022. Eds. J. Marek et al. IEEE 2022. ISBN 978-1-6654-6977-7. P. 115-118.

Hrubišák, F., Egyenes, F., Dobročka, E., Gucmann, F., Hušeková, K., Keshtkar, J., and Ťapajna, M.: Growth and properties of Ga₂O₃ on 4H-SiC using liquid-injection MOCVD. In Proc. 10^th Inter. Conf. on Advances in Electron. Photon. Technol. – ADEPT. Eds. M. Feiler et al. Žilina: EDIS 2022. ISBN 978-80-554-1884-1. P. 47-50.